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光刻胶
光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其消融度爆发转变的耐蚀剂刻薄膜质料。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、溶剂和其他助剂。

产品概述

光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其消融度爆发转变的耐蚀剂刻薄膜质料。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、溶剂和其他助剂。

产品特点

树脂是光刻胶的骨架,新利在线官网光刻胶以自产树脂为基体,具有以下优势:
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    耐刻蚀性好:接纳公司自产光刻胶用树脂,耐强酸刻蚀时间≥2400sec。

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    性价比高:自产树脂,本钱优势。

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    工艺窗口宽:产品顺应性强,工艺窗口宽。

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    环保:使用酚醛树脂系统和水性显影液。

应用领域

现在主要应用于GPP(玻璃钝化�;げ阍骷ED芯片、显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工领域。
产品咨询
若有疑问可直接热线联系: 18新利luck·(中国)-官方网站

400-777-8118

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